.SH)公告，全资子公司彤程电子在上海化学工业区投资建设的“年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目”已竣工，目前已逐步进入试生产阶段。

  公司上海化学工业区工厂占地36200平方米，设计能力年产1千吨半导体光刻胶、1万吨显示用光刻胶和2万吨高纯EBR试剂（光刻胶去边剂）。同时在国际国内半导体厂商及光刻胶厂商战略合作推动下，完成了产线优化及品控升级。

  其中，“年产1千吨半导体光刻胶量产产线吨ArF及KrF光刻胶量产产线，通过采用超高纯PFA（涂层）设备、引入高精度物料流量控制管理系统、配以自研的高精度高效率光刻过滤系统，能轻松实现ppt级金属杂质及0.1um级别的颗粒管控，具备不同配方先进制程光刻胶的生产能力。

  光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这样一种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像。

  ArF光刻胶、krF光刻胶是先进集成电路芯片制造的关键材料。其中，ArF光刻胶大范围的应用于逻辑芯片、存储芯片及第三代半导体等先进工艺制程芯片的关键层次的生产制造，krF光刻胶大范围的应用于90nm~14nm甚至更小线宽的技术节点的各种高端IC芯片的生产制造。

  彤程新材今日公告，在ArF光刻胶产品方面，公司已完成ArF光刻胶部分型号的开发，首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品，已具备量产能力，目前处于量产前的光刻工艺测试及产品验证阶段，能否验证通过尚存在一定的不确定性。产能可同时供应国内大部分芯片制造商，能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。

  此外，为解决ArF光刻胶所需的高纯溶剂及国内先进工艺制程的需求，公司已搭建完成高纯EBR装置，成为国内首家建有高纯EBR精馏塔设备及掌握高纯精馏技术的本土溶剂供应商。公司生产的EBR溶剂已达到G4等级规格，可满足国内40纳米以下工艺制程的芯片制造技术需求，年产2万吨的规模量产能力可有效满足国内先进制程需求。预计第四季度将完成高纯度G5等级EBR的验证，已在国内几家先进芯片制造商中逐步推动产品验证。

  值得一提的是，目前，公司G线光刻胶已经占据国内较大的市场占有率；I线光刻胶已大范围的应用于国内6、8、12集成电路产线nm及以上工艺。KrF光刻胶量产品种达20种以上，稳定供应国内头部芯片制造商。（注：G/I线nm波长下工作的光刻胶，大多数都用在晶圆半导体的生产。）

  据其2023年中报，随着中国大陆半导体产业高质量发展，制造工艺技术节点也在不断缩小，多家新的晶圆制造工厂相继建成投产，KrF和ArF等先进光刻胶市场需求量将继续增大。目前中国光刻胶市场国产供给比例仍然较低，公司将继续致力于解决高端材料“卡脖子”问题。

  彤程新材主要是做新材料的研发、生产、销售和相关贸易业务，大致上可以分为汽车/轮胎用特种材料、电子材料、全生物降解材料三大业务板块。

  中报显示，公司是全球最大的轮胎用特种材料供应商，客户覆盖全球轮胎75强，包括普利司通、米其林、固特异、马牌、倍耐力等国际知名轮胎企业，以及中策橡胶、赛轮轮胎、玲珑轮胎、三角轮胎、浦林成山等国内知名企业。

  电子材料业务方面，公司依托旗下彤程电子整合集团内资源打造电子化学品产业化平台，公司电子材料业务主要涵盖半导体光刻胶及配套试剂、显示面板光刻胶、PI材料及电子类树脂等产品。

  全生物可降解材料业务方面，公司与巴斯夫发布全球联合声明，通过引进巴斯夫授权的PBAT聚合技术，在上海化工园区落地10万吨/年可生物降解材料项目（一期）（实际建设产能6万吨），满足高端生物可降解制品在购物袋、快递袋、农业地膜方面的应用。

  当前公司业绩稳健增长。2023年前三季度，彤程新材实现盈利收入21.96亿元，同比增长18.89%；归母净利润3.5亿元，同比增长45.57%；扣除非经常性损益的净利润3.25亿元，同比增长70%。

  公司将净利润增长归结为“营收稳步增加，以及确认联营企业投资收益增加。”

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